Ziel: Aufnahme der Kennlinien eines Photowiderstandes
Bei der Photoleitung wird die Absorption von Licht durch den inneren photoelektrischen Effekt in einem Halbleiter zur Bildung freier Elektron-Defektelektron-Paare genutzt. Eine spezielle Halbleitermischung mit einem besonders starken inneren photoelektrischen Effekt ist Cadmiumsulfid, das zum Bau von Photowiderständen eingesetzt wird. Im Experiment wird ein CdS-Photowiderstand mit dem weißen Licht einer Glühlampe beleuchtet, deren Bestrahlungsstärke am Ort des Photowiderstandes durch Kreuzen zweier hintereinander stehender Polarisationsfilter variiert wird.
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Artikel-Nr.: 8000776 [UE6020400-230]
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